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Plasma PIV 0-200Hz 半导体泵浦脉冲Nd:YAG激光器

Plasma PIV 0-200Hz 半导体泵浦脉冲Nd:YAG激光器

Plasma PIV系统是专为PIV应用设计的全二极管泵浦双头激光系统。它包括两个完全独立的倍频Nd：YAG 激光器，两个激光光束组合成一个共同的光轴。该激光器在532nm单脉冲能量高达75mJ@150Hz和60mJ@200Hz。

脉冲二极管泵浦，超稳定的机械结构，抗损伤光学器件和富有创新的设计，使Plasma PIV 系统非常可靠。提供一个圆形均匀光束，低的M2，它是高亮度，高均匀性的理想激光。

Plasma PIV是一个独立的交钥匙系统，适合大部分PIV 应用。


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商品描述

Plasma PIV系统是专为PIV应用设计的全二极管泵浦双头激光系统。它包括两个完全独立的倍频Nd：YAG 激光器，两个激光光束组合成一个共同的光轴。该激光器在532nm单脉冲能量高达75mJ@150Hz和60mJ@200Hz。

脉冲二极管泵浦，超稳定的机械结构，抗损伤光学器件和富有创新的设计，使Plasma PIV 系统非常可靠。提供一个圆形均匀光束，低的M2，它是高亮度，高均匀性的理想激光。

Plasma PIV是一个独立的交钥匙系统，适合大部分PIV 应用。


特点：

系统优势

  • 长寿面二极管泵浦谐振器设计；

  • 电动衰减器进行精准的能量控制；

  • 每个激光头由独立的电源控制；

  • 易于配置3HG和4HG为LIF或PLIF应用；

  • 极其紧凑的激光头设计；

  • 专用电源和制冷器；

  • 坚固耐用的激光头适用于恶劣环境；

两个单独输出，独立的532nm激光头

  • 脉冲宽度10ns；

  • 重复频率从0到200Hz；

  • M2<10（532nm）；

  • 紧凑型电源和冷却；

  • 最佳光片形成均匀光束剖片；

  • 使用LUCi触摸屏控制界面操作直观；

应用：

  • PIV；

  • 粒度分析；

  • Ti:S泵浦；

  • 燃烧分析；

  • 激光诱导荧光；

  • 激光冲击强化；

  • 双脉冲LIBS；

主要参数：

单激光头


重复频率(kHz)

0-200

波长(nm)

532

脉冲能量(mJ)


10,15,25,50,100Hz

75

200Hz

60

参数@100Hz


M2

＜10

脉冲稳定度 @532nm (±%)

＜1.5

光斑直径(mm)(1)

5

发散角(mrad)(2)

0.9

脉冲宽度@532nm (ns) (3)

7-11

指向稳定性(μrad)

＜70

时间抖动(ns) (4)

1

偏振态(4)

线性

二极管寿命(pulses)

>4×109


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